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1995年获中国驻日大使馆教育处优秀留学人员称号，混改同年获国家杰出青年科学基金资助。
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【图文导读】图1 用于高密度弹性电路的单片光学微光刻图2双网络介导的导电聚合物的直接光学光刻技术图3 卡本介导的半导体和绝缘聚合物的直接光学光刻技术 图4 单片光学微光刻制造的高密度、受益高度均匀的弹性晶体管阵列 图5 弹性功能电路文献链接：受益Monolithicopticalmicrolithographyofhigh-densityelasticcircuits（Science，2021，DOI:10.1126/science.abh3551）本文由木文韬翻译，材料牛整理编辑。此外，国网公司还引入了紫外敏感的聚乙二醇二甲基丙烯酸酯（PEGDMA）来实现化学未改性的导电聚合物的双网络介导的直接光刻。
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